2月15日电,《中关村科学城集成电路流片补贴申报指南》2月14日在2025海淀区经济社会高质量发展大会上正式发布,面向海淀区从事集成电路设计业务的企业,支持集成电路设计企业开展多项目晶圆(MPW)或工程产品首轮流片(全掩膜),单个企业补贴最高1500万。在支持集成电路设计企业开展工程产品首轮流片(全掩膜)方面,对境内开展先进制程(14nm及以下)工程产品首轮流片(全掩膜)的企业,按照不超过产品流片费用的30%予以奖励,单个企业上限800万元;对在境内开展成熟制程(14nm以上)工程产品首轮流片(全掩膜)的企业,按照不超过产品流片费用的20%予以奖励,单个企业上限500万元;对在境外开展先进制程(14nm及以下)工程产品首轮流片(全掩膜)的企业,按照不超过产品流片费用的15%予以奖励,单个企业上限500万元。
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